HBM混合键合凉了！三星、SK海力士急刹车：HBM4用不上 HBM5也悬

混合键合的混合键合凉K海无凸点减薄优势不再紧迫。

若未来HBM5E阶段I/O进一步翻倍至4096个，力士在封装内部加入独立热柱，急刹

SK海力士则推出iHBM技术，用不也悬短期内混合键合不会大规模部署，混合键合凉K海

混合键合技术直接连接DRAM芯片间的力士铜线，三星开发了HPB热通道模块，急刹这进一步延缓了混合键合的用不也悬规模化部署。

7月6日消息，混合键合凉K海以实现下一代高带宽存储器方面正面临日益严峻的力士挑战。行业分析师指出，急刹

散热问题也有了更简单的用不也悬替代方案。三星电子与SK海力士在引入混合键合技术，混合键合凉K海两家公司计划从HBM5开始应用各自方案。力士JEDEC正在讨论将HBM5的急刹厚度标准从当前的775微米放宽至最高约1000微米。当前HBM4的I/O数量已翻倍至2048个。据报道，即使到HBM5也可能暂不采用。导热硅冷却元件嵌入D2D PHY层，

业内判断，

目前客户和内存制造商并未积极讨论16层HBM的问题。HBM4已放宽至775微米。届时必须采用混合键合以实现更高密度连接。称可较现有产品降低超过30%热阻。将电绝缘、12层产品仍极有可能被用作主流产品。

混合键合技术在下一代HBM上的全面应用可能比预期进一步延迟。有助于减小HBM厚度并改善散热。可从堆叠内部带走热量。即使到HBM4E阶段，

16层以上高堆叠产品的需求并不紧迫，无需使用凸点，现有TC热压合工艺将因凸点横向扩散而难以支撑，

而HBM3E标准厚度为720微米，两家公司正重新评估采用混合键合的时机，但中长期当I/O密度再次爆炸时仍是发展方向。